特高压热解吸质谱系统的研究

希登兼总经理工作站提供了一个通用的平台,精确控制热解吸研究(TDS)政权通过特高压压力温度范围从50ºC 1000ºC。常见的应用包括解吸硅片和薄膜涂层的研究,从金属氢进化的量化。

样品阶段,与温度斜坡完全可编程速度每分钟40ºC,由heatshield笼罩将水冷出气和点之间的冷却时间率降到最低。启用快速样品加载和提取通过特高压负载锁和样品转移机制,保持最佳主真空质量。样本,通常1平方厘米,附近的晶片的形式积极位于样品阶段,以确保有效的热接触加热器表面。

四极质谱计,也与水冷式夹克,安装验收孔径接近样品表面进化的最优捕获气体,300年阿姆河希登3 f图片系统具有快速数字检测系统与7-decade动态范围的最优量化发展高峰概要文件。样品温度直接与TPDsoft控制和合并收购项目组合的多个物种进化的温度。