高精度微量天平为吸附分析提供了新的可能
2013年11月5日
Hiden Isochema自豪地宣布推出XEMIS,一种新型高精度吸附微天平,用于极端环境下的精确称重。
XEMIS允许分析在高达200巴的压力和77 K至500℃的温度下材料对气体和蒸汽的吸附。它也可以处理侵略性的物种。这些条件的组合以前无法用商业重力吸附分析仪实现。
XEMIS采用Hiden Isochemaís新型外传感技术,独特的设计将传感和控制机构从微平衡室中移除,从而远离潮湿区域。这可以在不影响测量精度或分辨率的情况下,对危险和侵略性物种进行吸附分析。
此外,对称几何梁平衡设计提供了无与伦比的重量测量稳定性。XEMIS固有的长期稳定性,无需重新调零或重新校准平衡,因此确保了真实吸附行为的捕捉,并提供了在延长时间尺度上记录完整动力学数据的能力。它还允许对毫克到克样本量进行微克分辨率的重量测量,从而可以在当今研究人员所需的样本量范围内提供高精度的吸附测量。
这些特性的结合使XEMIS成为一个非常灵活的仪器,可以满足科学家和工程师在不同领域的苛刻要求,包括环境科学,能源存储,分离和净化技术。雷电竞网址
Hiden Isochema在重力吸附分析仪的设计和开发方面拥有超过20年的经验,是公认的吸附仪器领域的领导者。
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