使用离子色谱的涂层工艺的质量控制和优化

表面处理，如电镀，是设计具有专用物理、化学和电子性能的产品的最重要的工业工艺之一。溶质、溶剂、催化剂和电解槽的纯度和组成是实现所需性能的关键要求，防止因不平衡或污染而造成产品的损坏和劣等。杂质，即使是超痕量的杂质，也会对集成电路和半导体工业最终产品的电气性能产生不利影响。因此，国际半导体设备与材料(SEMI)规定了许多基本化学品和原材料的杂质水平在低µg/L范围内。离子色谱(IC)是分析离子杂质的理想方法，即使在ng/L范围内。

杂质如氟化物、氯化物、溴化物、亚硝酸盐、硝酸盐、磷酸盐或硫酸盐可能改变浴液的性质。因此，镀层性能受损，甚至半导体受损。用于蚀刻、电镀或清洗等工艺解决方案的化学品和原材料实际上需要不含这种离子杂质。集成电路，结合内联矩阵消去和内联预集中，即使在超痕量中也能理想地测定这些杂质。

内联矩阵消除去除不带电或相反带电的矩阵组分(如过氧化氢)，从而减少样品制备和提高色谱柱寿命。与智能在线预浓缩相结合，增加了测量灵敏度，允许分析ng/L范围内的杂质。

示例应用程序包括:

• 超纯水中痕量阴离子和阳离子分析
• 酸中痕量阴离子分析
• 四甲基氢氧化铵(TMAH)中的氯和硫酸盐
• 过氧化氢或异丙醇等有机溶剂中的阴离子杂质

该技术的鲁棒性允许处理几乎所有的工艺解决方案，如蚀刻，提取，或漂洗解决方案。

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